Technologie et fabrication des circuits intégrés

Le cours traite de la microélectronique, des circuits intégrés et de la Loi de Moore. Il détaille la fabrication du silicium monocristallin et les techniques de dopage. L’oxydation thermique et le dépôt de couches minces sont abordés. La photolithographie et la gravure des matériaux sont expliquées. L’impact de la contamination en salle blanche et l’encapsulation des composants sont étudiés. Enfin, les procédés de fabrication en technologies bipolaire et C-MOS sont présentés.